ハイドリック・ストレス*3からの解放。潤いにあふれ、心もリラックス。

肌の美しさと潤いに必要な水分補給のレベルは、ハイドリック・ストレス*3によって影響を受けます。ストレスの有無やその程度が肌表面のバリア機能に影響を及ぼし、細胞レベルでは水分保持力が変化しています。

『スキン リソース』は、肌の潤いの根源*4（ressource）へとアプローチ。みずみずしく快適な潤い肌を保つために研究を重ねました。2種類の自然由来の成分から生まれた『スキン リソース』共通成分、“ビューティー・モス・コンプレックス®*1”が、肌の水分バランスを整え、肌に潤いを補給します。

「スキン リソース マスク」は、乾燥が気になるすべての人におすすめの、集中保湿ケア マスク。肌にのせるとみずみずしくフレッシュな使い心地のジェル テクスチュア。シリーズ共通成分“ビューティー・モス・コンプレックス®*1”に加え、インテンシブ ケアとしてアローモス・エキス*2を配合し、肌は潤いで弾みしなやかな状態へと導かれます。